Sasaran sputtering titanium diperbuat daripada logam titanium dan digunakan dalam proses salutan sputtering.
Bahan sasaran titanium biasanya digunakan dalam salutan alat perkakasan, salutan hiasan, salutan komponen semikonduktor, dan salutan paparan rata. Terdapat dua kaedah utama untuk menghasilkan sasaran sputtering titanium: kaedah lebur dan kaedah tuangan.
mencairkan:Memanaskan logam pada suhu tinggi sehingga ia menjadi cecair. Kemudian tuangkan ke dalam acuan dan sejukkan untuk membentuk bahan sasaran yang padat.
Casting:Letakkan logam di dalam kebuk vakum dan bom dengan zarah tenaga tinggi. Ini akan menyebabkan logam tersejat, dan apabila ia sejuk, ia akan terpeluwap pada permukaan sasaran.
Ia adalah salah satu bahan teras untuk menyediakan litar bersepadu, dan ketulenannya biasanya diperlukan melebihi 99.99%. AEM menyediakan sasaran aloi titanium, seperti sasaran sputtering tungsten titanium (W/Ti 90/10 wt%), yang merupakan bahan penting dalam industri semikonduktor dan solar. Ketumpatan sasaran sputtering W/Ti boleh mencapai lebih 14.24 g/cm3, dan ketulenan boleh mencapai 99.995%.
Ciri-ciri
1. Tekanan tinggi:Bahan sasaran sputtering titanium mempunyai ketumpatan tinggi, rintangan haba yang tinggi, dan tekanan tinggi, yang boleh mengekalkan prestasinya dalam persekitaran yang kompleks.
2. Kestabilan kimia:Bahan sasaran titanium mempunyai kestabilan kimia yang baik dan hayat perkhidmatan yang panjang.
3. Kos yang tinggi:Bahan sasaran titanium mempunyai kos yang tinggi, tetapi disebabkan prestasinya yang sangat baik, ia digunakan secara meluas dalam bidang berteknologi tinggi.
Medan Aplikasi
1. Medan semikonduktor:Bahan sasaran sputtering titanium adalah salah satu bahan mentah penting dalam proses pembuatan cip semikonduktor, dan merupakan bahan utama untuk membuat komponen seperti transistor dan litar.
2. Bidang perindustrian:Bahan sasaran titanium boleh digunakan untuk menghasilkan salutan mewah, bahan anti-karat, dsb., dan digunakan secara meluas dalam bidang seperti kereta dan pembuatan.
3. Bidang perubatan:Bahan sasaran titanium mempunyai ciri-ciri seperti biokompatibiliti dan biodegradasi, dan boleh digunakan untuk membuat peranti perubatan seperti sendi tiruan dan implan pergigian.
Ringkasnya, sasaran sputtering Titanium ialah bahan penting yang digunakan secara meluas dalam bidang semikonduktor, perindustrian dan perubatan. Oleh kerana prestasinya yang cemerlang dan kos yang tinggi, masih terdapat potensi besar untuk pembangunan pada masa hadapan.
Cool tags: sasaran sputtering titanium, pengeluar sasaran sputtering titanium China, pembekal, kilang
