Sasaran Sputtering Molibdenum

Ketumpatan: 10.2 g/cm3

Takat lebur: 2610 darjah

Takat didih: 5560 darjah

Ketulenan sasaran molibdenum: 99.9%, 99.99%

Spesifikasi: sasaran bulat, sasaran plat, sasaran berputar

Ketulenan: Molibdenum tulen Lebih besar daripada atau sama dengan 99.95%, molibdenum suhu tinggi Lebih besar daripada atau sama dengan 99% (dengan unsur nadir bumi tambahan)

Bilet molibdenum (bahan mentah) - Pemeriksaan - Gulungan panas - Basuh alkali - Gulungan sejuk - Meratakan - Pemprosesan mekanikal - Pemeriksaan - Pembungkusan

Persekitaran yang sesuai untuk bahan molibdenum: persekitaran vakum atau persekitaran perlindungan gas lengai, molibdenum tulen mempunyai rintangan yang lebih tinggi kepada suhu tinggi 1200 darjah, dan aloi molibdenum mempunyai rintangan yang lebih tinggi kepada suhu tinggi 1700 darjah.

Bahan sasaran molibdenum boleh digunakan dalam mikroskop elektron, sel suria, industri semikonduktor, paparan panel rata, kaca konduktif

Bahan sasaran molibdenum juga boleh digunakan dalam salutan optik, salutan hiasan , salutan acuan dan bidang lain. Aplikasi sasaran molibdenum ini mendapat manfaat daripada sifat fizikal dan kimianya yang unik, seperti takat lebur yang tinggi, kekonduksian elektrik yang baik dan kestabilan haba, serta rintangannya terhadap suhu tinggi dan persekitaran yang menghakis.

Cool tags: sasaran sputtering molibdenum, sasaran sputtering molibdenum China pengeluar, pembekal, kilang